平衡濃度 - 中文百科全書

平衡濃度表示,有關公式,套用,影響HCl平衡濃度的因素分析,HCl平衡濃度圖對實驗現象的解釋,鋁酸鈉溶液,平衡濃度計算結果與實驗結果的比較,二氧化矽平衡濃度與苛性比溫度 ... 平衡濃度 平衡濃度指平衡狀態時，在溶液中存在的每種型體（species）的濃度，以符號[]表示,有的也用c()表示.例如一元弱酸（HX）在溶液中以HX和X-兩種形式存在，兩種型體的平衡濃度分別為[HX]和[X-]. 基本介紹 中文名：平衡濃度外文名：equilibriumconcentration狀態：平衡狀態水的平衡常數：K=[H+][OH-]/[H2O]平衡常數計算：c=[HAc]+[Ac-]或c=c(HAc)+c(Ac-) 表示,有關公式,套用,影響HCl平衡濃度的因素分析,HCl平衡濃度圖對實驗現象的解釋,鋁酸鈉溶液,平衡濃度計算結果與實驗結果的比較,二氧化矽平衡濃度與苛性比溫度的關係,二氧化矽的平衡濃度, 表示平衡濃度一般以方括弧[]表示，純液體平衡濃度可視為1。

一元弱酸弱鹼溶液中，以HAc為例，設總濃度為c，在水溶液中HAc以HAc和Ac-兩種形式存在，則：c=[HAc]+[Ac-]或c=c(HAc)+c(Ac-)有關公式平衡常數計算：aA(g)+bB(g)===一定條件===eE(g)+dD(g)K=[E]^e*[D]^d/[A]^a*[B]^b套用利用固體產物生成的能耗分析，在傳統的熱力學平衡公式中加入修正項，計算HCl氣體在利用石灰類吸收劑對其進行乾式淨化過程中的平衡濃度，首次提出氣固反應過程中反應氣體的平衡濃度隨著固體反應率的增大而上升的概念。

計算結果表明：吸收劑在達到一定的反應率以後，HCl的平衡濃度隨溫度的上升而下降。

利用平衡濃度隨反應率和溫度的變化特徵可以解釋傳統的熱力學平衡式所不能解釋的一些實驗現象，並可以利用平衡濃度來預測利用鈣基吸收劑乾式淨化焚燒爐排煙中HCl的淨化效率和吸收劑用量。

預測結果可以判斷乾式淨化的使用範圍、局限性和改進方向。

影響HCl平衡濃度的因素分析首先，需要明確的是當所需的推動功越大時，ΔG’將增大(絕對值減小)，HCl平衡濃度升高。

隨著吸收劑反應率X的上升，HCl的平衡濃度升高，這是因為吸收劑具有一定的反應率以後，HCl需穿透產物層擴散到反應面，氣流中HCl的濃度與反應面上HCl濃度之間必須存在差值，即平衡時主氣流與反應面上存在著HCl氣體分壓差；反應率X越大，產物層越厚，分壓差越大，同時產物生成所需的推動功增大，因此氣流中HCl的平衡濃度隨X的上升而升高。

其次，在200～310℃範圍內，當X很小時，HCl的平衡濃度隨溫度的上升而升高；而當X較高時，HCl的平衡濃度隨溫度的上升反而降低。

這是因為溫度升高時，自由焓變ΔGC的值上升，使平衡濃度呈上升趨勢，但由於晶粒直徑d增大，使產物層多孔，擴散阻力減小，HCl的分壓差減小；同時根據方程，所需的推動功也減小。

另一方面，總表面能和比表面能也隨溫度的上升而減小，所以總的自由焓變ΔG’隨溫度的上升而減小，從而HCl的平衡濃度降低。

第三，當氣流中水蒸氣的分壓上升時會導致HCl的平衡濃度升高。

第四，當X為零或很小時，相同條件下Ca(OH2)對應HCl平衡濃度比CaO高；而當X較高時(例如X≥15%)，CaO對應的HCl平衡濃度會很快上升，溫度較低時超出Ca(OH)2。

第五，相同反應率的條件下，改性石灰對應HCl平衡濃度比普通Ca(OH)2對應的平衡濃度要低得多。

HCl平衡濃度圖對實驗現象的解釋利用HCl平衡濃度的上述變化特點可以解釋一些實驗現象。

一般條件下Ⅰ，Ⅱ的化學反應勢很大，ΔGC很小，正反應趨勢很強，按ΔGC=0計算出來的HCl平衡濃度非常低，例如在250℃和PH2O=8%時，用Ca(OH)2和CaO作吸收劑，按ΔGC=0，HCl的計算平衡濃度分別低於0.1×10-6和0.001×10-6。

但實際的情況是：在250℃和PH2O=8%時，在不受反應時間的限制下，吸收劑的當量為HCl的3倍也難以將HCl在煙氣中的濃度降低到80×10-6以下，這是因為與反應率相對應的實際平衡濃度高於80×10-6。

再例如其它條件相同而溫度升高時，反應Ⅰ，Ⅱ的ΔGC值升高，反應化學勢降低，而在實驗中吸收能力卻隨溫度的升高而提高，這是因為溫度上升HCl的平衡濃度反而下降。

鋁酸鈉溶液基於組成類似的化合物熱力學數據與組成存在的線性關係，計算了4種鈉矽渣的熱力學數據，並計算了在鋁酸鈉溶液中形成鈉矽渣後二氧化矽平衡濃度與溫度或苛性比的關係。

計算結果表明，二氧化矽平衡濃度計算值與實驗值相符；同時，隨著溫度的升高或苛性比的增大，鋁酸鈉溶液中二氧化矽平衡濃度也隨之增大。

平衡濃度計算結果與實驗結果的比較根據鈉矽渣(設為Na2O。

Al2O3。

2SiO2。

2H2O)熱力學數據的計算值，結合生成鈉矽渣的反應方程式，可計算生成鈉矽渣時二氧化矽的平衡濃度，計算結果與Cresswell和Hewett實驗研究結果比較吻合較好。

同時也說明了對於具有固定結構的鈉矽渣，其二氧化矽平衡濃度是隨著溫度的升高而增大，這一規律與實驗結果相一致。

在同樣的條件下，計算了形成三種鈉矽渣後二氧化矽平衡濃度，並與其他實驗結果相比較表明，生成鈉矽渣1、4與Hewett實驗結果相符，而生成鈉矽渣2與Adamson、Leiteizen和Oku的結果相符。

即在不同條件下，生成了不同的鈉矽渣，表現於二氧化矽的平衡濃度是不一樣的，這與鈉矽渣的生成規律相符。

說明了計算的鈉矽渣熱力學數據是可靠的。

二氧化矽平衡濃度與苛性比溫度的關係苛性比是氧化鈉與氧化鋁的分子比(記為αk)，是氧化鋁生產中常用的一種技術參數，計算了形成3種鈉矽渣後二氧化矽平衡濃度與苛性比的關係。

二氧化矽平衡濃度隨著溶液苛性比的升高而增大，同時，隨著溫度的升高，二氧化矽平衡濃度隨之升高，在200℃左右達到一極值。

這些計算結果與實驗研究結果比較一致。

二氧化矽的平衡濃度(1)基於組成類似的化合物熱力學數據與組成存在的線性關係，計算了四種鈉矽渣的熱力學數據。

(2)計算了在鋁酸鈉溶液中形成鈉矽渣後二氧化矽平衡濃度，二氧化矽平衡濃度計算值與實驗值相符；同時，隨著溫度的升高或苛性比的增大，鋁酸鈉溶液中二氧化矽平衡濃度也隨之增大。

相關詞條 平衡濃度平衡濃度指平衡狀態時,在溶液中存在的每種型體(species)的濃度,以符號[]表示,有的也用c()表示.例如一元弱酸(HX)在溶液中以HX和X-兩種形式存在,兩種型...分析濃度分析濃度表示溶液體系達平衡後,各組型體(同一物質的不同形態)的平衡濃度之和。

可以認為是物質加入溶液中的總濃度,也可以通過一些實例來理解。

如Na2CO3的分析...標準平衡常數在一定溫度下,可逆反應達到平衡時,產物濃度計量係數次方的乘積與反應物濃度計量係數次方的乘積之比為平衡常數。

若在上面的平衡常數表達式中,若各物質均以各自的標準...平衡常數在特定條件下(如溫度、壓力、溶劑性質、離子強度等),可逆化學反應達到平衡狀態時生成物與反應物的濃度(方程式係數冪次方)乘積比或反應產物與反應底物的濃度(方程式...平衡轉化率平衡轉化率是指某一可逆化學反應達到化學平衡狀態時,轉化為目的產物的某種原料的量占該種原料起始量的百分數。

...化學平衡常數化學平衡常數,是指在一定溫度下,可逆反應無論從正反應開始,還是從逆反應開始,也不考慮反應物起始濃度大小,最後都達到平衡,這時各生成物濃度的化學計量數次冪的乘積...分配平衡分配平衡規律指在恆溫恆壓條件下,溶質在互不相溶的兩相中達到分配平衡。

如果其在兩相中的相對分子質量相等,則其在兩相中的平衡濃度之比為常數,即A=c2/c1為常數...物料平衡1、產品或物料實際產量或實際用量及收集到的損耗之和與理論產量或理論用量之間的比較,並考慮可允許的偏差範圍。

2、在分析化學中,物料平衡是指在一個化學平衡體系中...質子平衡化學平衡中,每一給定的分析濃度等於各存在型體平衡濃度之和,溶液呈電中性,荷正電的質點數應等於荷負電的質點數,酸鹼反應達平衡時酸失去的質子數等於鹼得到的質子...空位濃度簡介在晶體中,空位並非固定不變,它處於不斷的產生和消失過程中,在晶體中,空位的數量通常用“空位濃度”衡量。

指的是晶體中空位總數和結點總數的比值。

根據統計熱力...平衡近似平衡近似又稱平衡假設。

化學動力學中,處理含有連續和對峙反應等複雜反應的一種近似方法。

...電離平衡弱電解質在一定條件下電離達到平衡時,溶液中電離所生成的各種離子濃度以其在化學方程式中的計量為冪的乘積,跟溶液中未電離分子的濃度以其在化學方程式中的計量為冪...本徵載流子濃度本徵載流子濃度(Intrinsiccarrierconcentration)為本徵半導體材料中自由電子和自由空穴的平衡濃度,常用值為300K時的濃度值。

本徵載流子濃度與溫度有關,同樣材質的...化學平衡化學平衡是指在巨觀條件一定的可逆反應中,化學反應正逆反應速率相等,反應物和生成物各組分濃度不再改變的狀態。

可用ΔrGm=ΣνΑμΑ=0判斷,μA是反應中A物質... 熱門詞條 正原未來 認購權證 鄭羽婷 勞倫·科漢 凍頂烏龍茶 嘗鮮 圓球 茶葉包裝 蛤蠣 橘皮 齊藤太太 gphone 阿瑪尼 新竹城隍廟 天空之橋 TOEFLIBT 斬仙 出血 海濤 一律 貓狗大戰2 材料力學 林允兒 今生緣音樂網 happytreefriends 摩爾斯電碼 絲漣 清朝服飾 平衡濃度@中文百科全書