投影光刻儀
文章推薦指數: 80 %
SUSS MicroTec 公司的光罩對準組合,以其高對準精度和精密的曝光技術,輔以獨創的投影光刻解決方案:DSC 光刻儀平台結合了全場光刻與投影光刻成像性能的所有優點,從而 ...
News
中文繁體
DE
EN
中文
日本語
產品與解決方案
CoaterAndDeveloper
InkjetPrinting
掩模对准器
Metrology
晶圓接合系統
光掩模设备
ProjectionScanner
奈米壓印技術
SUSSImprintExcellenceCenter
Micro-Optics
設備翻新
CustomerService
培訓
全自動
ACS300Gen3
ACS300Gen2
ACS200Gen3
半自動
AD12
SD12
AS8/AS12
RCD8
手動
MCS8
LabSpin6/LabSpin8
HP8
全自動
JETxSMSolderMask
JETx
手動
LP50
全自動
MA300Gen2
MA200Gen3
MA100/150eGen2
半自動
MA12
MA8Gen5Mask-Aligner
MA/BAGen4Series
MA/BAGen4ProSeries
手動
MJB4
全自動
DSM8/200Gen2
全自動
XBC300Gen2
XBS300
XBS300Hybrid-BonderPlattform
XBS200
半自動
BA8Gen4Pro
BAGen4Serie
LD12
SB6/8Gen2
XB8
全自動
MaskTrackProSeries
ASxSerie
半自動
HMxSerie
全自動
DSC300Gen3
公司
Organization
研發
品質管理
採購
活動日曆
客戶雜誌
聯絡我們
聯絡我們
Locations
CustomerService
IRContact
投影光刻儀
SUSSMicroTec公司的光罩對準組合,以其高對準精度和精密的曝光技術,輔以獨創的投影光刻解決方案:DSC光刻儀平台結合了全場光刻與投影光刻成像性能的所有優點,從而提供一個極具成本效益的替代方案,以取代步進投影。
配備全視域光罩和寬帶投影鏡頭,以單一連續掃描模式投影至載具。
該平台適用於先進封裝(特別是晶圓級晶片尺寸封裝和倒裝芯片封裝)、3D整合、微機電系統和顯示器。
DSC300Gen3ProjectionScannerTheHigh-ThroughputAlternativeto1XSteppers
DSC300Gen3ProjectionScannerTheHigh-ThroughputAlternativeto1XSteppers
Technologies
ProjectionLithography
延伸文章資訊
- 1SUSS MicroTec以積極研發保持半導體後端微顯影市場領導地位
身為業界領先的光罩對準機開發製造商,以專利的MO曝光照明技術(MO Exposure Optics Illumination),大幅改進了光罩對準機的光學效能,同時對於往後3D封裝 ...
- 2光罩對準曝光機 - 國立陽明交通大學
光罩對準曝光機 ... 服務項目:各種元件之對準曝光. 設備相關照片. ×. 詳細資料. 名字, Karl-Suss MJB-3. 擷取日期, 1/03/88. 生產商, SUSS MicroT...
- 3光罩對準曝光機(Mask Aligner 德國Karl-Suss )操作程序
光罩對準曝光機(Mask Aligner 德國Karl-Suss)操作程序. 1、在使用登記表登錄使用人及開機時間。 2、打開右邊鐵架上之汞燈電源(須熱機20 分鐘以上,光源才會穩定)。
- 4MA/BA Gen4-Serie Mask- und Bond-Aligner - SÜSS MicroTec
第4 代專業級MA/BA 系列係為SÜSS MicroTecs 旗下半自動式光罩對準曝光機之多方位裝置 ... SUSS MicroTec solutions for imprint litho...
- 5晶圓曝光機- MASK ALIGNER - 超常科技
單車環島讓您日行百里的好幫手-Gripfast龍頭避震器除了有避震的性能, ... Home; 光電與半導體; 半導體二手設備; 晶圓曝光機 ... Karl Suss - MA200 MASK...